慧诺 HN-SS14/AFAL(F) 旋涂仪 自动滴胶 500nm胶厚 不锈钢腔体 方形基片 载具固定
目标胶厚500nm，整版均匀性≤10nm（3σ），转速0-5000rpm，加速度100-3000rpm/s，自动滴胶量精度≤±0.1ml，兼容7、9英寸方片，不锈钢腔体
慧诺
HN-SS14/AF(F)
设备用途
本设备专用于掩膜版制造工艺中的光刻胶旋涂工序，适用于7、9英寸方形掩膜版基片的自动滴胶与旋涂，以AZ1500系列正性光刻胶实现500nm目标胶厚及优异均匀性。
工艺需求：胶厚500nm，整版均匀性≤10nm，AZ1500光刻胶材料特性（旋涂厚度范围0.5~6μm）-2
基片规格
| 序号 | 规格（英寸） | 基片形状 | 厚度范围（mm） | 备注 |
| 1 | 7" | 方形 | 2.95 ~ 3.15 | 参考尺寸：177.8×177.8mm |
| 2 | 9" | 方形 | 3.20 ~ 3.30 | 参考尺寸：228.6×228.6mm |
注：设备最大兼容尺寸需覆盖9英寸方片的对角线长度，即约323mm。
方片专用载具（定制载物盘）
载具为7"、9"规格的方形载具，载具采用精密加工，基片嵌入后与载具表面齐平
自动滴胶系统
集成自动注胶系统（支架高度/角度可调），配置高精度点胶阀或精密注射泵，滴胶量、滴胶位置、滴胶时间可编程控制，与旋涂程序联动，支持多步多次滴胶
腔体材质
不锈钢材质腔体，透明防腐上盖，可选升级：若涉及强腐蚀性药液，建议选用PTFE（聚四氟乙烯）腔体材质 -7，PTFE材质具有优异的耐化学腐蚀性，适用于多种光刻胶和溶剂环境。
商品展示图
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规格参数Specs
型号 | HN-SS14/AF(F) |
转速范围 | 0 ~ 5000rpm |
转速分辨率 | 1rpm |
速度精度 | ±1rpm |
匀胶精度 | ±1% |
加速度范围 | 100 ~ 3000 rpm/s，可编程调节 |
单步最大旋涂时间 | 3600s |
程序段数 | ≥10段（可扩展至20段），每段可独立设置转速/加速度/时间 |
程序存储数量 | ≥10组配方，支持配方调用与保存 |
显示屏 | ≥10英寸彩色液晶触摸屏（推荐14.3英寸） |
操作语言 | 中英文切换 |
运行模式 | 单步/多步运行可选 |
控制方式 | 直流无刷电机，闭环控制 |
安全装置 | 堵胶保护、开盖停转保护、真空互锁，透明防腐上盖 |
腔体材质 | 不锈钢材质腔体 |
滴胶量精度 | ≤±0.1ml |
滴胶位置重复精度 | ≤±0.5mm |
滴胶时间分辨率 | 0.1s |
目标胶厚 | 500 nm |
整版胶厚均匀性 | ≤10 nm（3σ） |
滴胶量稳定性 | ≤±0.1 ml |
缺陷控制 | 无可见气泡与颗粒点 |
固定方式 | 载具固定 |
载具定位精度 | ≤0.1mm |
基片与载具间隙 | ≤0.05mm |
尺寸兼容性 | 7、9英寸方形片 |
工作环境 | 洁净室环境，温度20~25℃，湿度45±5% |
外形尺寸 | 参考：380×300×280mm（最终以设计确认为准） |
电源 | 220V/50Hz，功率≤500W |
慧诺 HN-SS14/AF(F) 旋涂仪（带自动滴胶）包装清单Detail
| 名称 | 型号 | 说明书 | 画册 | 操作说明书 | 清单 |
|---|---|---|---|---|---|
| 旋涂仪（带自动滴胶） | HN-SS14/AF(F) |  |
整机x1、托盘x2、真空泵x1、自动滴胶系统x1、说明书x1、合格证x1 【注意】因厂家包装可能更新或升级，详细包装清单以厂家最新标配为准。 |
售后保障Terms
| 名称 | 型号 | 保修天数 | 说明 |
|---|---|---|---|
| 旋涂仪（带自动滴胶） | HN-SS14/AF(F) | 365天 |
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